4. Etching dan Deposition: Setelah pola terbentuk, bahan lapisan di bawahnya dipotong atau diendapkan sesuai kebutuhan untuk membentuk sirkuit mikro.
"Moore's Law" yang menyatakan bahwa jumlah transistor pada chip komputer akan berlipat ganda setiap dua tahun, mendorong teknologi photolithography untuk terus berkembang guna memungkinkan "miniaturisasi" komponen elektronik.
2. Perkembangan Lithography Modern
Deep UV (DUV) Lithography
Ketika skala sirkuit semakin kecil, panjang gelombang cahaya UV yang digunakan dalam photolithography tradisional mulai mencapai batasnya. Untuk mengatasi ini, panjang gelombang yang lebih pendek mulai digunakan, menghasilkan teknologi "Deep UV (DUV) lithography". DUV menggunakan cahaya dengan panjang gelombang sekitar "193 nm", memungkinkan pembuatan fitur yang lebih kecil di wafer.
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography
Untuk terus memenuhi kebutuhan miniaturisasi perangkat, "EUV lithography" dikembangkan. EUV menggunakan cahaya dengan panjang gelombang yang jauh lebih pendek, yaitu sekitar "13,5 nm". Teknologi ini memungkinkan pembuatan "chip semikonduktor" dengan fitur yang sangat kecil, di bawah "7 nm", yang menjadi standar di industri chip modern.
EUV lithography adalah salah satu teknologi "paling canggih" dalam pembuatan chip komputer saat ini, digunakan oleh perusahaan seperti "Intel", "Samsung", dan "TSMC" untuk membuat mikroprosesor dan chip memori berperforma tinggi.
3. Quantum Lithography
Quantum lithography merupakan inovasi lanjutan yang memanfaatkan prinsip-prinsip "fisika kuantum" untuk mengatasi batasan yang dihadapi oleh photolithography tradisional. Quantum lithography bertujuan untuk mencetak fitur di bawah batas difraksi cahaya yang dianggap sebagai batas minimum resolusi.
Prinsip Quantum Lithography
Dalam photolithography tradisional, ukuran fitur yang dapat dicetak dibatasi oleh panjang gelombang cahaya yang digunakan. Namun, quantum lithography menggunakan prinsip "entanglement kuantum" untuk melampaui batas difraksi ini.
Prinsip-prinsip utama dari quantum lithography melibatkan:
1. Entanglement, Dengan menggunakan "foton yang terjerat" terikat, dimungkinkan untuk mencetak pola dengan resolusi yang lebih kecil dari batas difraksi cahaya.
