Lithography modern berkembang dari teknik tradisional yang awalnya digunakan untuk mencetak gambar pada batu kapur, hingga menjadi salah satu teknologi paling penting dalam industri semikonduktor saat ini. Evolusi lithography modern, termasuk teknologi "kuantum lithography, melibatkan peningkatan resolusi dan presisi untuk memenuhi tuntutan industri yang terus berkembang, terutama dalam pembuatan perangkat mikro dan nano. Mari kita menelusuri perjalanan dari lithography tradisional ke lithography kuantum.
1. Asal Mula Lithography Modern
Lithography tradisional ditemukan oleh seniman Jerman "Alois Senefelder" pada tahun 1796 sebagai metode pencetakan di atas batu. Metode ini menggunakan tinta berminyak dan air untuk menghasilkan cetakan. Teknik ini kemudian berkembang dan diadaptasi ke berbagai industri. Namun, terobosan signifikan datang di abad ke-20 dengan munculnya
"photolithography"
Photolithography (1940-an - Sekarang)
Photolithography adalah teknik yang memungkinkan pembuatan pola mikro di atas permukaan semikonduktor, terutama silikon, yang merupakan dasar pembuatan chip komputer. Metode ini menjadi pusat revolusi elektronik modern, dimulai pada "1940-an" saat pembuatan transistor silikon pertama oleh "Bell Labs".
Prinsip photolithography melibatkan penggunaan "cahaya ultraviolet (UV)" untuk mentransfer pola dari masker (sejenis stensil) ke permukaan wafer silikon yang telah dilapisi photoresist (bahan kimia sensitif terhadap cahaya).
Langkah-langkah utama dalam proses ini mencakup:
1. Coating: Wafer silikon dilapisi dengan lapisan photoresist.
2. Exposure: Cahaya UV melalui masker untuk menciptakan pola di atas photoresist.
3. Development: Area yang terkena cahaya dihilangkan, meninggalkan pola di atas silikon.
